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GTHK-8空心陰極離子源

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GTHK-8空心陰極離子源

空心陰極離子源是我公司為滿足廣大用戶對真空鍍膜沉積的更高要求而開發的一款新型離子源,具有工作時間長、發熱量小、污染小等特點;適用于鍍前預清洗、低溫冷鍍,改善膜層致密度和穩定性;廣泛應用于手機、鏡頭、眼鏡片、紅外、激光、光通訊、醫療、軍工以及科研等行業。
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  空心陰極離子源是我公司為滿足廣大用戶對真空鍍膜沉積的更高要求而開發的一款新型離子源,具有工作時間長、發熱量小、污染小等特點;適用于鍍前預清洗、低溫冷鍍,改善膜層致密度和穩定性;廣泛應用于手機、鏡頭、眼鏡片、紅外、激光、光通訊、醫療、軍工以及科研等行業。

  主要特點

  ◆提高膜層穩定性和致密度;

  ◆連續工作時間長;

  中穩定性可靠;

  ◆熱輻射低;

  ◆維護方便;

 

型號 GTHK-8
點火電壓 150V/2A
陽極電壓 300V
陽極電流 10A
有效范圍 Y直流偏移
20- 250Hz可設置 適用于1500及以下設備
工作時長(H) 大于100
離子束發散角度 >45°
X下限報警電流 X、Y輸出特性
關鍵詞:
空心陰極離子源
真空鍍膜
新型離子源
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