瀏覽量:
1000
產品描述
參數
用途
用于真空鍍膜過程中基底離子轟擊清潔及沉積過程中離子轟擊能量輸送。廣泛應用于:增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學、高反鏡、熱/冷反光鏡、低漂移濾波器、帶通濾波器、在線清洗、類金剛石沉積等。
作用
能夠改善薄 膜的生長、優化薄膜結構,增加鍍膜的一致性和重復性,低溫高速率鍍膜。清除工件表面水和碳氫化合物,增加薄膜密度,降低內應力,清除結合力弱的分子,反應氣體活度增加,薄膜成分易于控制。
性能指標
陽極電壓:DC50-300V
陽極最大允許電流:10A
陽極電流范圍:3-10A
最大離子束流:3.3A
燈絲電流:18-40A
氣體流量:10-100Sccm(氬或氧)
外形尺寸:Φ160*255(H)
電源尺寸:480(W)*240(H)*600(D)
安裝開孔:2個直徑33.5的通孔
試用設備:0.7米~1.7米鍍膜機
關鍵詞:
真空鍍膜
增透膜
眼鏡鍍膜
掃二維碼用手機看
上一個
XNY-ALS陽極膜離子源
下一個
無
聯系我們
地址:四川成都市溫江區海峽兩岸科技園科興西路688號8區1號
銷售熱線:李先生 13678066523 (微信同號)
技術熱線:魏先生 13880790839 (微信同號)
售后熱線:熊先生 13558661090 (微信同號)
電話傳真:028-85834909
關注我們

版權所有?成都興南儀真空設備有限公司 蜀ICP備15029375號-1 網站建設:中企動力 成都